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稀有氣體的化學(xué)奇跡——二氟化氙
二氟化氙是一種稀有氣體二氟化氙屬于一種稀有化合物，具有強(qiáng)氧化性和還原性。不僅可以作為化學(xué)試劑，還被廣泛應(yīng)用于電氣絕緣材料、光學(xué)材料和半導(dǎo)體材料等領(lǐng)域。同時(shí)，二氟化氙也是一種危險(xiǎn)物質(zhì)，與鹵素或氧氣接觸時(shí)可引發(fā)爆炸。了解二氟化氙的特性和應(yīng)用將帶給人們?nèi)碌幕瘜W(xué)世界觀。更多 +
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氙氣的化學(xué)性質(zhì)
氙氣為0族元素，其原子的外圍處于飽和狀態(tài)。氙氣雖具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性，由于氙原子外圍電子的層數(shù)較多，原子核對外層電子的束縛相對較弱，表現(xiàn)為其化學(xué)性質(zhì)不像氦、氖、氬那樣穩(wěn)定，氙不僅能與氟生成二氟化氙和四氟化氙，更多 +
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氙氣用于哪行位置
氙氣用于哪行位置 氙氣在放電時(shí)會產(chǎn)生藍(lán)色或淡紫色的光芒。使用氙氣燈的照明效果比傳統(tǒng)燈好。例如，頻閃燈，照相閃光燈，用于電影 放映的高強(qiáng)度弧光燈，一些用于深海觀察的燈，殺菌燈，日光浴燈和高壓弧都使用這種氣體。一些汽車前燈使用氙氣。 如果您看到前燈發(fā)出柔和的藍(lán)色光芒，則可能是氙氣制成的。 氙氣還有其他用途。它用于核電站以及填充電視和無線電管。硅微處理器用二氟化氙蝕刻。氙離子推進(jìn)系統(tǒng)使一些衛(wèi)星 和其他航天器進(jìn)入軌道。據(jù)英國皇家化學(xué)學(xué)會稱，氙氣甚至被用于制造一種名為5-氟尿嘧啶的更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢和特點(diǎn)
氟化氙（XeF2）可用于Si、Mo和Ge的各向同性蝕刻，是蝕刻犧牲層來“釋放”MEMS（MEMS是微機(jī)電系統(tǒng)的縮寫，中文名為Micro Electro-Mechanical System。MEMS芯片，簡而言之，利用半導(dǎo)體技術(shù)在硅片上制造電子機(jī)械系統(tǒng)，或者更形象地說，創(chuàng)造微米級和納米級的機(jī)械系統(tǒng)，可以將外部物理和化學(xué)信號轉(zhuǎn)換為電信號。）更多 +
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氙氣作為世界上最亮的惰性氣體有什么用途？
氙氣是一種無色氣體，不能燃燒或支持燃燒。它吸收X光。氣體相對密度為5.887±0.009，液體相對密度為3.52（-100℃），固體相對密度為2.7（-140℃）。臨界溫度16.6℃，臨界壓力58.2×L05 Pa，臨界密度1.155。它是一種稀有的天然氣，具有最高的相對原子質(zhì)量和密度。在稀有氣體中，氙是目前最常見的化合物，如六氟鉑氙（XePTFA）、六氟磷酸氙（Xe-PF6）、六氟化磷氙（XeRhF6）、二氟化氙（XeF2）、氧化氙等。更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢和功能
由于XeF2是干氣相蝕刻，因此在通過小孔或狹窄空間蝕刻時(shí)不存在與表面張力或氣泡相關(guān)的問題。XeF2用于蝕刻直徑小至25nm的通孔。類似地，XEF2避免了通常與濕蝕刻工藝相關(guān)的粘附問題，濕蝕刻工藝可能在釋放/干燥后損壞永久器件。更多 +
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