-
四氟化碳，滿足半導體的“潔癖”
四氟化碳是半導體行業中不可或缺的清潔劑，具有高純度、無殘留、易揮發等特點。它在半導體微制造過程中可用于清洗、刻蝕和去污，為高純度半導體的生產提供了保障。四氟化碳在半導體行業具有重要作用，成為半導體的“潔癖”滿足者。更多 +
-
四氟化碳：半導體行業的利器
近年來，四氟化碳在半導體工業中得到了廣泛的應用。它作為一種優異的清潔劑，在清洗、腐蝕和去污方面表現出色。與其他清洗劑相比，四氟化碳具有更高的化學活性和腐蝕性，能更快速地完成清洗任務。蝕刻過程中，四氟化碳的蝕刻速度更快，表面質量更好。雖然四氟化碳對環境有一定的影響，但由于在半導體制造中使用量很少，其環境影響較小。四氟化碳在半導體工業中的應用有助于提高生產效率和清潔度。更多 +
-
半導體產業鏈之電子特種氣體行業深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于它的化學穩定性極 強，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業等。當今超大規模集成電路所用電子氣體的特點和發展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規模，各國為推動本國微電子工業的發展，越來越重視發展特種電子氣體的生產技術。就目前 而言，CF4更多 +
-
四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作用。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等更多 +
-
三氟化氮安全使用注意事項
三氟化氮是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。吸入高濃度NF3可引起頭痛、嘔吐和腹瀉.長期吸入低濃度NF3能損傷 牙齒和骨骼，使牙齒生黃斑，骨骼成畸形。具有強氧化性。與還原劑能發生強烈反應，引起燃燒爆炸。與易燃物(如苯)和有機物(如糖、纖維素等)接觸會發生劇 烈反應，甚至引起燃燒。受高熱發生劇烈分解，甚至發生爆炸。更多信息請點擊,或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 急救措施 皮膚接觸,脫去污染的衣著，用流動清水沖洗。若有灼傷，就醫更多 +
