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蝕刻工藝中的高溫室效應(yīng)潛力氣體
本文介紹了幾種高GWP氣體，如四氟化碳、八氟環(huán)丁烷等在蝕刻過(guò)程中對(duì)環(huán)境的負(fù)面影響，并探討了低GWP替代氣體六氟丁二烯的優(yōu)勢(shì)，呼吁采用更環(huán)保的蝕刻材料以減少溫室效應(yīng)。更多 +
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六氟乙烷和八氟丙烷：可靠的絕緣劑和冷凍劑選擇
六氟乙烷，C2F6，R-116)和八氟丙烷(C3F8，R-218)是兩種常見(jiàn)的氟化碳化合物。它們廣泛應(yīng)用于各種 工業(yè)領(lǐng)域，具有多種功能和用途。更多 +
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六氟乙烷C2F6化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS
六氟乙烷C2F6化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS 六氟乙烷,六氟乙烷氣體,六氟乙烷標(biāo)準(zhǔn)氣體,六氟乙烷混合氣體 一、基本信息國(guó)標(biāo)編號(hào)：22034CAS：76-16-4中文名稱：六氟乙烷msds英文名稱：Hexafluoroethane別 名：R116；全氟乙烷分子式：C2F6；CF3CF3分子量：138.0熔 點(diǎn)：-101℃密 度：相對(duì)密度(水=1)1.61；蒸汽壓：/溶解性：微溶于水穩(wěn)定性：穩(wěn)定外觀與性狀：無(wú)色、無(wú)氣味、非易燃的氣體，在24.3℃以上時(shí)不能保持液態(tài)，通常裝在更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、LCD器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。與此同時(shí)，隨著這些行業(yè)的快速發(fā)展，含氟特殊電子氣體也有了很大的增長(zhǎng)。 常見(jiàn)的含氟特殊電子氣體有六氟化硫（sf6）、六氟化鎢（WF6）、四氟化物（CF4）、三氟甲烷（CHF3）、三氟化氮（NF3）、六氟乙烷（C2F6）和八氟丙烷（C3F8）。 三氟化氮（NF3）是一種含氟特殊氣體，是市場(chǎng)更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時(shí)，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長(zhǎng)亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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六氟乙烷的制備方法
六氟乙烷又稱全氟乙烷，是乙烷中六個(gè)氫原子全部被氟原子取代后的產(chǎn)物，是鹵代烴（化學(xué)式：C2F6），亦是烴類化合物乙烷所對(duì)應(yīng)的全氟化合物，是一種不易燃的氣體，難溶于水，微溶于醇。 六氟乙烷常用于半導(dǎo)體的生產(chǎn)，主要用于一種具多功能的蝕刻技術(shù)，它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對(duì)其金屬基質(zhì)的選擇性蝕刻。叧外，它亦用于蝕刻硅上的二氧化硅。六氟乙烷還可連同三氟甲烷一起用于制冷劑R508A（六氟乙烷占61%）及R508B（六氟乙烷占54%）。 六氟乙烷的制備方法主要有一下幾種：更多 +
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