-
有毒氣體實驗需要注意什么
化學實驗中的有毒氣體是什么 ① 刺激性氣體是指能夠刺激眼睛和呼吸道黏膜的氣體。它是化學工業中常見的有毒氣體。有許多類型的刺激性氣體，包括氯、氨、氮氧化物、光氣、氟化氫、二氧化硫、三氧化硫和硫酸二甲酯。 ② 氮氣是指可導致體內缺氧的有毒氣體。窒息氣體可分為單純窒息氣體、血液窒息氣體和細胞窒息氣體。如氮氣、甲烷、乙烷、乙烯、一氧化碳、硝基苯蒸汽、氰化氫、硫化氫等。 有毒氣體檢測注意事項 防爆：點燃易燃氣體誘餌或用CO和H2還原Fe2O3和CuO之前，必須檢查氣體純度。 防沸騰：加熱液體或蒸更多 +
-
降低還是提升？目前電子級氣體建設成本怎么樣？
對于電子氣體傳輸系統而言，在不降低系統污染水平和安全配置的情況下降低建設和運營成本也是一個挑戰。 通過合理的系統配置和材料選擇，可以降低初始投資成本。這要求電子輸氣網絡承包商具有強大的系統設計能力。相同的沖洗氮氣系統用于具有合適性質的氣體，這可以節省氣瓶柜的入口。對于VMB，可使用移動式沖洗氮氣盤。 用于小型管道（≤1/2“）的施工彎頭直接使用，既節省了彎頭的成本，又提高了施工效率。嚴格執行高純度管道施工規范可以減少測試氣體和測試時間。這些是有用的成本控制措施。使用大型包裝容器的空更多 +
-
高純電子級氣體下游應用都有哪些？
在工業中，常溫常壓下呈氣態的產品統稱為工業氣體產品。工業氣體是現代工業的原料，在經濟中發揮著重要作用。 根據不同的處理工藝和應用領域，它可以分為散裝氣體和特殊氣體。散裝氣體主要包括空氣分離氣體，如氧氣、氮氣和氬氣，以及合成氣體，如乙炔和二氧化碳。氣體純度要求不高，主要用于冶金、石化、煤化工和鋼鐵。特殊氣體有很多種，主要包括高純度氣體、混合氣體等。，主要用于電子、光伏和醫療等新興行業。用于制造半導體的電子氣體屬于特殊氣體。 作為特種氣體的一個重要分支，用于替代大型電子產品的國內更多 +
-
醫藥中間體是什么？它和原料藥的區別！
什么是醫藥中間體？他和API之間的區別！醫藥中間體和原料藥都屬于精細化學品類別。中間體是一種在原料藥的工藝步驟中產生的材料，只有經過進一步的分子變化或精制才能成為原料藥。中間體可以分離，也可以不分離。 活性藥物：用于制造醫藥產品的任何物質或物質混合物，當用于醫藥產品時，其成為醫藥產品的活性物質。該物質在疾病診斷、癥狀緩解、治療或疾病預防中具有藥理學或其他直接作用，或可能影響身體的功能和結構。藥物是一種已經完成合成路徑的活性產物，中間體是合成路徑中的某個地方的產物。原料藥可以直接產生，而中間體只能用于合更多 +
-
電子級氣體大流量、不間斷、穩定輸送的發展趨勢
電子質量氣體具有大流量、連續穩定傳輸的發展趨勢，從而滿足大型量產工廠對電子質量氣體大流量、持續穩定傳輸的要求，是一個挑戰。 電子氣體傾向于集中供應，特殊氣體放置在氣室中。根據機器的流量要求合理配置輸送系統的數量。專用輸氣設備必須采用全自動切換供氣，并設計更多備用設備。對于低蒸氣壓氣體（WF6、DCS、BCl3、C5F8、ClF3等），有必要進行氣缸加熱、氣板加熱、管道跟蹤等。考慮到，為了精確控制流量，一般假設采用高精度壓力變送器、電子天平、溫度控制器等。在空氣源的末端。機器的氣體消耗點也配有質量流量計更多 +
-
氮氣的用途 氮氣的制備方法
氮的用途是什么？氮氣通常被稱為惰性氣體，在一些惰性氣氛中用于金屬處理，在燈泡中用于避免電弧，但在化學上不是惰性的。它是動植物生命中的重要元素，也是許多有用化合物的組成部分。氮與許多金屬結合形成硬氮化物，可作為耐磨金屬。鋼中的少量氮抑制了高溫下的晶粒生長，也提高了某些鋼的強度。它也可以用來在鋼上制作堅硬的表面。氮可用于生產氨、硝酸、硝酸鹽、氰化物等。使用；制造爆炸物；裝有高溫溫度計和白熾燈；形成惰性材料以保存材料以用于干燥箱或手套袋。食品冷凍中的液氮；作為實驗室的冷卻劑。 氮，化學式為N？，它是無色無味更多 +
-
高壓空氣用于激光切割機的優點
眾所周知，激光切割機必須使用輔助氣體來加工金屬。氮氣、氧氣和空氣被廣泛用于輔助氣體，而空氣是最經濟的氣體。只有一臺空氣壓縮機可以連續供氣。 激光切割機空氣切割原理： 加工激光切割機時，必須使用惰性氣體。當然，空氣是一種簡單而經濟的保護氣體。空氣壓縮機的作用是：提供部分壓縮空氣從空氣中排出的壓縮空氣通過儲氣罐和干燥器進入空氣控制柜后，通過一系列精密處理系統將其轉化為清潔和干燥的氣體，最終分為三種方式，分別用作切割氣體、氣缸流氣源和光路超壓除塵氣體，以產生內n維護激光切割系統投入運行。因此，空氣壓縮機對更多 +
-
高純氨氣制取的四項關鍵技術
高純度氨產品是光電子和微電子技術不可或缺的支撐材料。它廣泛應用于半導體照明、平板顯示器、太陽能電池和大型集成電路的制造。高純度氨的質量直接影響材料的光學和電學性能，甚至影響設備的使用壽命。國內外都有巨大的潛在市場。隨著國內半導體工業的發展，對高純度氨的需求快速增長，高純度電子氣體的國產化是必然的發展趨勢。 高純度氨也是通過有機金屬化學氣相沉積（MOCVD）技術生產第三代復合半導體材料氮化鎵（GaN）的重要支撐材料。MOCVD生產氮化鎵（GaN）要求所用的氨必須是高純度和超清潔的，純度為7N（99.99更多 +
