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半導體產業鏈之電子特種氣體行業深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于它的化學穩定性極 強，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業等。當今超大規模集成電路所用電子氣體的特點和發展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規模，各國為推動本國微電子工業的發展，越來越重視發展特種電子氣體的生產技術。就目前 而言，CF4更多 +
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氪氣價格飆漲是否會終結于此？
隨著科技進步，氪氣因其特殊的物理特性被廣泛應用于電子、醫學、中空玻璃及航空航天等領域。氪氣分離提取工藝要求較高，價格堪比黃金，因此又被稱為“黃金氣體”。近年來，氪氣市場價格飆漲的主要原因離不開供應用端需求的拉動，尤其是航空和半導體領域需求增量較為顯著。 氪氣主要用于半導體存儲器件64層以上3D NAND高深寬比蝕刻工藝，在等離子狀態下與氧氣和其他氟碳氣體一起使用。日本鎧俠和韓國SK海力士是氪氣的主要客戶，氪氣需求量目前已經接近全球可供應量的50%。隨著5G、物聯網技更多 +
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常見的電子混合氣體組分|紐瑞德特氣
電子工業用氣體統稱為電子氣。在大規模集成電路（LSI）、超大規模集成電路（VLSI）、半導體和電子器件生產與加工過程中，電子氣主要用于氣相外延生長、化學氣相淀積、摻雜（雜質擴散）、蝕刻、離子注入、濺射、退火、系統加壓、潔凈吹掃、吸氣覆蓋、氧化和還原等工藝。其中部分氣體直接作為半導體源，如硅源、硼源、磷源和CVD 源等等。 常見的幾種電子混合氣體： Oxygen in Tetrafluoromethane 4% O2/CF4 8% O2/CF4 1更多 +
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常見的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣
氣體在半導體工業和微電子工業中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規模集成電路（L.S.I）超大規模集成電路（V.L.S.I）和半導體器件生產中，主要用于氣相外延（生成）、化學氣相淀積、摻雜（雜質擴散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。 根據不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴散氣、化學氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊更多 +
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六氟化硫氣體每公斤多少錢？|來紐瑞德獲取最新價格
六氟化硫氣體具有良好的電氣絕緣性能及優異的滅弧性能。其耐電強度為同一壓力下氮氣的2.5倍，擊穿電壓是空氣的2.5倍，滅弧能力是空氣的100倍，是一種優于空氣和油之間的新一代超高壓絕緣介質材料。 六氟化硫以其良好的絕緣性能和滅弧性能，如：斷路器、高壓變壓器、氣封閉組合電容器、高壓傳輸線、互感器等。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應用于微電子技術領域。冷凍工業作為制冷劑，制冷范圍可在-45℃～0℃之間。 電氣工業利用其很高介電強度和良好的滅電弧性能，用作高更多 +
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四氟化碳組分氣體的氣相色譜試驗方法
四氟化碳用途廣泛，目前是微電子行業中用量最大的等離子蝕刻氣體。它作為溫室氣體中的一個中類，可以通過多種途徑進入水體、土壤、大氣中，對環境造成污染。目前的研究已充分證實了臭氧層的損耗與四氟化碳氣體在大氣中釋放的自由基有關。因此，為了準確的評估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳組分氣體的分析方法及準確定值的方法，評價該類氣體物質對自然環境以及經濟發展的影響是當前急需解決的問題！ 國家標準物質研究中心對該組份氣體的制備方法、分析方法以及定值方法進行了研究。通過研究確立氣體標注物質量值的復現程序及更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作用。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等更多 +
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氙氣在芯片制造業中前途不可估量！
氙氣在電子芯片制造業中的最新使用 氙氣作為稀有氣體，目前國內產量較低。跟著科技的開展，氙氣的使用領域越來越廣泛，首要使用于電光源、醫療、科研、航空航天等。 近年來，氙氣就被廣泛使用于電子芯片制造業，這也是目前氙需求增加及對氙投機生意的最重要原因。多家大型芯片制造商正使用氙氣等離子蝕刻，首要用于微電子機械系統（ MEMS ）的制造。MEMS 設 備可將微電子和微機械集成為一個全體，能在一塊芯片上制作更復雜及成效更強的電路。這種技術從根本上把電腦芯片（處理數據）和傳感器（搜集數據）結合到一個元件上，能夠批量出產，這更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結納米級溝槽的加工，成為電子工業領域內一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發團隊提出自主開發新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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電子氣體國產化，為何難以實現？
廣義的“電子氣體”指電子工業生產中使用的氣體，是重要原材料之一；狹義的“電子氣體”特指半導體行業用的氣體。電子氣體在電子產品制程工藝中廣泛應用于薄膜、蝕刻、摻雜等工藝，被稱為半導體、平面顯示等材料的“糧食”和“源”。 在硅片制造廠，一個硅片需要兩到三個月的工藝流程，完成450道或更多的工藝步驟才能得到有各種電路圖案的芯片。這個過程包括外延、成膜、摻雜、蝕刻、清洗、封裝等諸多工序，需要的高純電子化學氣體及更多 +
