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電子特氣—三氟碘甲烷蝕刻技術(shù)
三氟碘甲烷作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟(jì)效用高、滅火后不留痕跡等特點(diǎn)，是哈龍1301優(yōu)選替代品種，經(jīng)NFPA的標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證，可正式使用。在航空、航天等領(lǐng)域具有不可替代的作用。作為制冷劑，三氟碘甲烷不燃，具有油溶性和材料相容性很好的特點(diǎn)，被認(rèn)為是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑組元的理想替代品之一。另外，三氟碘甲烷在含氟中間體、半導(dǎo)體蝕刻、發(fā)泡劑等其它領(lǐng)域也具有廣泛的應(yīng)用前景。 三氟碘甲烷（CF3I）作為半導(dǎo)體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進(jìn)制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（C更多 +
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