三氟碘甲烷（CF3I）作為半導體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（CF3I）具有高選擇性和高深寬比。三氟碘甲烷（CF3I）作為電氣設備絕緣與滅弧氣體用于溫室氣體SF6的替代，絕緣強度大約為SF6的1.23 倍以上，擊穿分解后不會產生有毒產物。三氟碘甲烷（CF3I）作為滅火劑主要用于哈龍滅火劑的替代，具有滅火效率高、安全性能好、經濟效用高、滅火后不留痕跡等特點。三氟碘甲烷作為制冷劑主要用于傳統氟利昂制冷劑CFCs、HCFCs、HFCs的替代，具有不燃、油溶性和材料相容性很好的特點，已被聯合國列入第3 代環保制冷劑的主要組元。

 

此外，三氟碘甲烷還能與有機金屬試劑作用，是有機合成中引入氟代甲基的重要含氟中間體，可廣泛應用于有機合成、生物化學、農藥、醫藥、表面活性劑和染料等領域。

 

三氟碘甲烷，又稱三氟甲基碘(以下稱CF3I)，分子式CF3I，代號FIC-13I1、Freon13I1、R–1311。其環保特性優異：ODP值為在0.0001以下，GWP值為1，大氣壽命小于1.2天。具備安全性好，無毒、阻燃、油溶性和材料相容性好等特點。

 

目前，CF3I的生產、純化技術一直由發達國家化學品公司壟斷，嚴重依賴進口，受控于國際市場，價格高，訂貨周期長、運輸困難。國內CF3I的研究、生產尚處于初步階段。伴隨著國際環保公約階段性強制推行，國內對溫室氣體減排要求提高，低GWP氣體CF3I備受推崇，隨著CF3I的應用開發日益增加，作為滅火劑、混合制冷成分、刻蝕劑、絕緣氣體、含氟中間體等使用，其市場需求明顯增加，國產化規模生產技術的開發日益迫切。