氪具有比氬更大的相對分子質量和小的導熱系數，使它成為優良的充填氣。用氪氣充填的等有：白熾燈、熒光燈、閃光弧光燈、碘燈等。氪燈比同功率的氟燈省電20%~25%，壽命長2~3倍。長壽命氪燈體積小，對礦井作業很適用。實驗室里用到的連續紫外光等也可以用氪氣充填。氪還能制成不需要電能的原子燈，用于無可用電源的工作場所。氪燈的透射能力特別強，可用于夜戰中的越野戰車做照射燈。在飛機機場跑道上，通常使用氪氣充填的閃光弧光等做照明，因為它穿透霧的能力很強。

 

 

氪氣的新用途是用于電子工業,準分子激光刻蝕（Kr+F）：1997年起已用于0.25μm的集成電路硅片生產線（128M，256M,1G,4G等硅片的生產），新用途的開發也改變了實際生產中Kr過剩而Xe不足的問題。在準分子激光的應用中，基于安全的因素，在（Kr+F）混合氣中含F的濃度控制在2.5%~10%（一般為5%）。其他還有（Kr+Ne+F）的三元混合氣。

 

 

目前氪氣已在鎧俠(日本東芝)、SK海力士規模應用，市場有傳聞三星也有導入計劃。國內長江存儲，大連英特爾已小規模在使用。氪氣其在3D NAND上應用主要是深溝道槽的刻蝕與清潔。3D NAND的溝道槽縱深比大，按要求刻蝕好深溝道槽圖形的重要性非常突出。據消息人士2019年年底預測，2020年該行業氪氣的用量可達4000m3/月（沒有考慮疫情影響）。隨著5G、物聯網技術、及各類電子產品快速迭代，大數據正呈現出爆炸式的增長，3DNAND芯片的需求也隨之高速增長。因而氪氣的使用量也隨著增長，突顯加劇氪氣供需不平衡。