四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣

體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，

如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作

用。

四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜

材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、

印刷電路生產中的去污劑等方面都有著大量的應用。