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二氧化硫怎樣與氫氧化鈉反應
二氧化硫與氫氧化鈉的反應 二氧化硫少量的情況,發生的化學反應方程式如下: SO?+2NaOH=Na?SO?+H?O 當二氧化硫少量的時候,二氧化硫只和氫氧化鈉反應生成亞硫酸鈉。 工業生產氫氧化鈉的方法有苛化法和電解法兩種。苛化法按原料不同分為純堿苛化法和天然堿苛化法;電解法可分為隔膜電解法和離子交換膜法。 擴展資料 氫氧化鈉具有強堿性和有很強的吸濕性。易溶于水,溶解時放熱,水溶液呈堿性,有滑膩感;腐蝕性極強,對纖維、皮膚、玻璃、陶瓷等有腐蝕作用。與金屬鋁和鋅、非金屬硼和硅等反更多 +
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標準氣體的穩定性與有效期
標準氣體的穩定性是制備和使用中的關鍵問題。理論上,充入高壓氣瓶的標準氣體的濃度值在儲存和使用過程中不得改變。然而,當標準氣體中的組分氣體或雜質接觸容器內壁時,往往會引起吸附、解吸、化學反應等現象,使其濃度值隨時間變化。濃度越低,組成越復雜,變化越大。因此,標準氣體的穩定性與容器材料的物理性質、容器內壁的預處理以及氣體本身的化學性質密切相關。 (1) 儲存容器的選擇和預處理 裝有標準氣體的容器必須由耐腐蝕、無銹蝕、吸附性低、化學性能穩定和機械強度高的材料制成。常用的高壓容器由錳鋼、鉻相鋼、鋁合金或不銹更多 +
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氣體在半導體外延中起到的作用
外延生長本質上是一個化學反應過程。用于硅外延生長的主要氣體源是氫和氯硅烷,例如四氯化硅(SiCl4)、三氯氫硅(SiHCl3)和二氯硅烷(SiH2Cl2)。此外,硅烷經常被用作氣體源以降低生長溫度。氣源的選擇主要取決于外延層的生長條件和規格,其中生長溫度是選擇氣源的最重要因素。硅外延層的生長速率和生長溫度之間的關系。 顯示了兩個不同的增長區域。在低溫區域(區域A)中,硅外延層的生長速率與溫度成指數關系,這意味著它們由表面反應控制;在高溫范圍(區域B),生長速率與溫度幾乎沒有直接關系,表明它們受質量傳輸更多 +
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氫燃料電池和普通電池有什么區別?
電池負極側的氫電極(燃料電極)進入氫氣,正極側的氧化電極(空氣或氧氣)進入空氣或氧氣。正負極之間沒有電解質,電解質將兩極分開。根據燃料電池類型,使用不同的電解質,包括酸、堿、熔鹽或固體電解質。在燃料電池中,燃料和氧化劑與催化劑反應,通過能量轉換過程中的電化學反應產生電能和水(H2O)。因此,不會排放氮氧化物(NOX)、碳氫化合物(HC)和其他污染大氣環境的氣體。 燃料電池與普通電池的區別在于: 1.燃料電池是一種能量轉換裝置,其在運行期間必須輸入能量(燃料)以產生電能。普通電池是一種儲能裝置。它必須更多 +
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氫能是一次能源還是二次能源
氫能是一種二次能源。 氫能是氫和氧的化學反應釋放的化學能。它具有能量密度高、零污染、零碳排放等優點。被譽為21世紀的“終極能源”。 氫能是氫元素在物理和化學變化過程中釋放的能量。氫氣和氧氣可以通過燃燒產生熱能,也可以通過燃料電池轉化為電能。氫氣不僅來源廣泛,而且具有導熱性好、清潔無毒、單位質量熱量高等優點。由于質量相同,它所含熱量約為汽油的三倍,是石化工業的重要原料,也是航天火箭的能源燃料。隨著應對氣候變化和實現二氧化碳中和的需求不斷增長,氫能將改變人類能源系統。 氫能更多 +
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氦氣在半導體制造中發揮著重要作用
氦是一種從天然氣收集器中獲得的惰性氣體,具有許多用于半導體制造的特性。由于氦是一種“惰性”氣體,它不會與其他元素發生反應,因此是制造半導體的理想選擇。半導體加工中的化學反應通常基于氣體或液體,因此在硅周圍使用惰性氣體可以防止不必要的反應。此外,由于氦的高導熱性,它可以有效地傳遞熱量,這有助于在制造過程中控制硅的溫度,并使半導體小型化成為可能。 半導體越來越多地應用于幾乎所有可能的應用中。例如,基于半導體的電動汽車零部件占汽車制造成本的35%。到2030年,隨著其他零部件變得更加更多 +