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: 氣相色譜法測(cè)定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法

四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時(shí)在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測(cè)四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）
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: 如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)

四氟化碳分子式CF4，常溫下為無(wú)色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對(duì)熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長(zhǎng)時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過(guò)程中不必要的四氟化碳?xì)怏w非常重要。不同添加氣體對(duì)微波電漿
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: 電子氣體哪里用？

2018年是第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化準(zhǔn)備的關(guān)鍵期,到2025年，第三代半導(dǎo)體器件將在移動(dòng)通信、高效電能管理中國(guó)產(chǎn)化率占50%；LED通用照明市場(chǎng)占有率達(dá)到80%，核心器件國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到95%；第三代半導(dǎo)體器件在新能源汽車(chē)、消費(fèi)類(lèi)電子領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。第三代半導(dǎo)體是“重點(diǎn)新材料研發(fā)及應(yīng)用”重大項(xiàng)目的組成部分。目前，我國(guó)微電子、光電子等電子信息產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展，而微電子、光電子產(chǎn)業(yè)對(duì)氣體的質(zhì)量要求極高，這促使了國(guó)內(nèi)特種氣體公司意識(shí)到了自有技術(shù)的重要性。我們將這個(gè)領(lǐng)域所使用的的氣體叫電子氣
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: 電子特氣產(chǎn)品開(kāi)始全新突破

電子特氣被稱(chēng)為半導(dǎo)體材料的“糧食”和“源”。更多信息請(qǐng)點(diǎn)擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 在微電子、光電子器件生產(chǎn)過(guò)程中,從芯片生長(zhǎng)到最后器件的封裝,幾乎每一步、每一個(gè)環(huán)節(jié)都離不開(kāi)電子氣體,因此電子氣體被稱(chēng)為半導(dǎo)體材料的“糧食”和“源”。電子氣體成本占IC材料總成本的5%-6%,雖然看似占比不大,但是很大程度上決定了半導(dǎo)體器件性能的好壞。電子氣體純度每提高一個(gè)數(shù)量級(jí),都會(huì)極
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: 電子氣體的發(fā)展將無(wú)法估量

我國(guó)特種氣體市場(chǎng)起步較晚，所以在技術(shù)領(lǐng)域較國(guó)外巨頭企業(yè)有一定的差距，也正是因?yàn)槿绱颂胤N氣體市場(chǎng)長(zhǎng)期被外企所壟斷。但近年來(lái)國(guó)內(nèi)電子氣體奮起直追，表現(xiàn)格外搶眼。伴隨著國(guó)民經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，特別是21世紀(jì)后我國(guó)電子行業(yè)的突飛猛進(jìn)，國(guó)內(nèi)特種氣體公司意識(shí)到了專(zhuān)有技術(shù)的重要性。我國(guó)在特種氣體生產(chǎn)、儲(chǔ)存等領(lǐng)域上取得了重要突破，特別是電子特氣目前基本實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化，基本打破了國(guó)外企業(yè)的壟斷。更多信息請(qǐng)點(diǎn)擊，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 近年來(lái)我國(guó)微電子、光電子等電子信息產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展，促
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: 四氟化碳?xì)怏w處理快閃記憶體的應(yīng)用你知道么

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家?guī)?lái)使用四氟化碳電漿處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應(yīng)用介紹。
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: 六氟化硫在氮化硅蝕刻中的作用

六氟化硫是一種絕緣性極佳的氣體，經(jīng)常被用于高壓滅弧以及變電器、高壓傳輸線、互感器等當(dāng)中。但是六氟化硫除了這些功能以外，也可以作為電子蝕刻劑使用。電子級(jí)高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應(yīng)用于微電子技術(shù)領(lǐng)域。今天紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下六氟化硫在氮化硅蝕刻中的應(yīng)用和不同參數(shù)的影響吧。
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