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特種氣體在蝕刻中的應(yīng)用
刻蝕分為濕法蝕刻和干法蝕刻。???硅片的蝕刻氣體(特種氣體)主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。???蝕刻氣體氣體工業(yè)名詞,蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表…更多 +
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高純六氟化硫在研究和生產(chǎn)中的重要作用
目前,SF6廣泛應(yīng)用于電力、航天、化學(xué)、物理、氣象、激光、醫(yī)藥等領(lǐng)域。 高純度SF6在先進(jìn)的研究和生產(chǎn)領(lǐng)域中發(fā)揮著重要的作用,作為一種特殊氣體是必需的。 在軍事領(lǐng)域,被用作魚雷和潛艇的推進(jìn)劑和清潔劑。在微電子工業(yè)中用于清潔氣體和蝕刻氣體;在光導(dǎo)纖維制造中用作絕緣層摻雜劑。高純度SF6及其氣體混合物在合金氧化過程中可作為合金保護(hù)氣體溶解;在醫(yī)學(xué)上,SF6被用作安全的超聲波造影劑,特別是肝臟腫瘤的x線檢查。SF6通常是通過靜脈注射,緩慢的呼吸排除…&hellip更多 +
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六氟化硫氣體的屬性和作用-武漢紐瑞德特種氣體有限公司
六氟化硫(SF6)是一種六氟化硫化合物,其分子式為SF6,其室溫壓力下的密度約為空氣的5倍。六氟化硫是一種鐵電負(fù)極氣體,在20℃時(shí),其絕緣強(qiáng)度約為空氣的3倍,SOHO容量約為空氣的10倍。由于它具有優(yōu)異的電性能,目前在電氣設(shè)備中得到了廣泛的應(yīng)用。 2、作用六氟化硫(SF6)其良好的絕緣性能和消弧性能,如:斷路器、高壓互感器、氣密封組合電容器、高壓輸電線、互感器等。高純度六氟化硫作為電子蝕刻劑已大量應(yīng)用于微針技術(shù)領(lǐng)域。用于朗東商務(wù),使用范圍-45℃至0℃。在電氣工業(yè)中,它具有極更多 +
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氙氣在電子芯片制造業(yè)中的應(yīng)用
氙氣在電子芯片制造業(yè)中的應(yīng)用 氙氣的最新用途是用在電子芯片制造業(yè),也是目前氙需求增長及對(duì)氙投機(jī)買賣的最重要原因,幾家大型芯片制造商正使 用氙氣等離子蝕刻,主要用于微電子機(jī)械系統(tǒng)( MEMS )的制造。MEMS設(shè)備可將微電子和微機(jī)械集成為一個(gè)整體,能 在一塊芯片上制作更復(fù)雜及功效更強(qiáng)的電路。這種技術(shù)從根本上把電腦芯片(處理數(shù)據(jù))和傳感器(收集數(shù)據(jù))結(jié)合到 一個(gè)元件上,可以批量生產(chǎn),這種芯片的潛在用途不可限量,氙氣蝕刻工藝就由一些半導(dǎo)體制造商用于生產(chǎn)這種超級(jí)芯 片.氙氣,高純更多 +
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氙氣用于哪行位置
氙氣用于哪行位置 氙氣在放電時(shí)會(huì)產(chǎn)生藍(lán)色或淡紫色的光芒。使用氙氣燈的照明效果比傳統(tǒng)燈好。例如,頻閃燈,照相閃光燈,用于電影 放映的高強(qiáng)度弧光燈,一些用于深海觀察的燈,殺菌燈,日光浴燈和高壓弧都使用這種氣體。一些汽車前燈使用氙氣。 如果您看到前燈發(fā)出柔和的藍(lán)色光芒,則可能是氙氣制成的。 氙氣還有其他用途。它用于核電站以及填充電視和無線電管。硅微處理器用二氟化氙蝕刻。氙離子推進(jìn)系統(tǒng)使一些衛(wèi)星 和其他航天器進(jìn)入軌道。據(jù)英國皇家化學(xué)學(xué)會(huì)稱,氙氣甚至被用于制造一種名為5-氟尿嘧啶的更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)
氟化氙(XeF2)可用于Si、Mo和Ge的各向同性蝕刻,是蝕刻犧牲層來“釋放”MEMS(MEMS是微機(jī)電系統(tǒng)的縮寫,中文名為Micro Electro-Mechanical System。MEMS芯片,簡而言之,利用半導(dǎo)體技術(shù)在硅片上制造電子機(jī)械系統(tǒng),或者更形象地說,創(chuàng)造微米級(jí)和納米級(jí)的機(jī)械系統(tǒng),可以將外部物理和化學(xué)信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。)更多 +
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氟化氫HF化學(xué)品安全技術(shù)說明書MSDS
氟化氫HF化學(xué)品安全技術(shù)說明書MSDS 氟化氫,氟化氫氣體,氟化氫標(biāo)準(zhǔn)氣體,氟化氫混合氣體 標(biāo)識(shí)中文名:氟化氫msds英文名:Hydrogen fluride 分子式:HF 分子量:20.01 CAS號(hào):7664-39-3 RTECS號(hào):MW7875000 UN編號(hào):1052 危險(xiǎn)貨物編號(hào):81015 IMDG規(guī)則頁碼:8185 理化性質(zhì)外觀與性狀:無色液體或氣體。 主要用途:用于蝕刻玻璃,以及制氟化合物。 熔點(diǎn):-83.7沸點(diǎn):19.5相對(duì)密度(水=1):1.15更多 +
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三氯化硼B(yǎng)Cl3化學(xué)品安全技術(shù)說明書MSDS
三氯化硼B(yǎng)Cl3化學(xué)品安全技術(shù)說明書MSDS 第一部分 化學(xué)品化學(xué)品中文名稱:三氯化硼msds化學(xué)品俗名或商品名:氯化硼化學(xué)品英文名稱:Boron trichloride,Boron chloride推薦用途:高純硼和有機(jī)硼的制取,摻雜、蝕刻、光纖維的制造、擴(kuò)散。限制用途:無資料。第二部分 危險(xiǎn)性概述化學(xué)品名稱:三氯化硼 GHS危險(xiǎn)性類別:急性毒性—吸入—1 皮膚腐蝕、刺激—1B更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)和功能
由于XeF2是干氣相蝕刻,因此在通過小孔或狹窄空間蝕刻時(shí)不存在與表面張力或氣泡相關(guān)的問題。XeF2用于蝕刻直徑小至25nm的通孔。類似地,XEF2避免了通常與濕蝕刻工藝相關(guān)的粘附問題,濕蝕刻工藝可能在釋放/干燥后損壞永久器件。更多 +
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