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99.999%（5N）高純四氟化碳
產品分類：四氟化碳更多 +
純度：99.999%（5N）
包裝：鋼質無縫氣瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式：CF4
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四氟化碳氣體在微電子蝕刻中的應用解析
四氟化碳氣體在微電子工業中被廣泛應用于蝕刻技術，包括晶圓制造、太陽能電池板制造和線路板制造。紐瑞德是一家專注于高純四氟化碳氣體供應的制造商。需要高純四氟化碳氣體的客戶可以聯系武漢紐瑞德供應商。更多 +
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四氟化碳——不可或缺的工業氣體
四氟化碳是工業中不可或缺的氣體，廣泛應用于微電子、塑料行業和金屬冶煉等領域。本文介紹了四氟化碳的性質、應用及安全存放規范，并推薦了一家可靠穩定的高純四氟化碳供應商。更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣 體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體， 如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作 用。更多 +
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氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質的方法
四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領域廣泛應用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應用空間。四氟化碳的廣泛應用，其產品質量要求也相應的較為明確、規范。目前行業內較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低溫室效應
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩定，化學性質比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結構。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數是6,500（二氧化碳的系數是1），所以去除生產過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
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四氟化碳氣體處理快閃記憶體的應用你知道么
四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家帶來使用四氟化碳電漿處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應用介紹。更多 +
