-
四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)領域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團隊提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
-
四氟化碳在微電子行業(yè)的應用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控更多 +
-
蝕刻技術中特種氣體的作用
硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬復合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等 蝕刻是采用化學和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程?？涛g的目的是在涂膠的硅片上正確地復制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕更多 +
-
氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質的方法
四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領域廣泛應用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應用空間。四氟化碳的廣泛應用，其產(chǎn)品質量要求也相應的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
-
如何去除四氟化碳？降低溫室效應
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩(wěn)定，化學性質比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結構。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
-
四氟化碳的熱導率的研究報告
四氟化碳又稱四氟甲烷,分子量為88.01,無色無味氣體.微溶于水,在25℃、1大氣壓時，溶解度為0。0015%（重量）。常溫下是壓縮氣體。更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 熔點-183.6℃ 臨界溫度-45.67℃ 沸點-128.1℃ 臨更多 +
-
四氟化碳生產(chǎn)廠家工藝揭秘
四氟化碳生產(chǎn)廠家的工藝揭秘，今天紐瑞德小編就帶你一起來看一下，更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 1.由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應，或四氯化碳與氟化銀反應，或四氯化碳與氟化氫反應，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。 2.預更多 +
-
四氟化碳到底有沒有毒性？
四氟化碳是一種無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體，揮發(fā)性較高，同時也是最穩(wěn)定的有機化合物之一，不溶于水。那么四氟化碳有沒有毒性的呢？今天的小編為你介紹一下四氟化碳的知識，更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838更多 +
-
進口高純氙氣市場規(guī)模
近年來，我國高新技術持續(xù)快速發(fā)展，計算機工業(yè)對大規(guī)模集成電路及液晶顯示器的需求大量增加。近年來，我國大力發(fā)展新型能源，市場對多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的需求量也與日俱增。此外，新型電光源、光電半導體器件、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展，在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中，都需要大量氙氣 氦氣、氪氣、氖氣、氙氣、氨氣、四氟化碳、硅烷、八氟環(huán)丁烷、六氟化硫等特種氣體，以制造出性能可靠的各種器件。 隨著我國制造業(yè)的發(fā)展，未來我國工業(yè)對進口高純氙氣需求仍將快速增長，我國特種氣體行業(yè)的市場規(guī)模有望保持20更多 +
-
六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測定
1、 本標準規(guī)定了六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測定，使用氣相色譜測定法。本標準適用于電氣設備用六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測定。 2、 原理 本方法采用氣相色譜儀中空氣、四氟化碳、六氟化硫完全分離，其濃度可以從它們的峰區(qū)面積和被測化合物對檢測器的校正系數(shù)來確定,結果以中空氣、四氟化碳與六氟化硫的質量百分數(shù)(％)表示。 3 儀器和材料 3.1 色譜儀更多 +
