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三氯氫硅還原法制取高純硅的化學原理
SiHCl3的合成 第一步：由硅石制取粗硅 硅石（SiO2）和適量的焦炭混合，并在電爐內加熱至1600~1800℃ 可制得純度為95%~99%的粗硅。其反應式如下： SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑ 2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑ 總反應式： SiO2+2C=Si+2CO（g）↑ 生成的硅由電爐底部放出，澆鑄成錠。用此法生產的粗硅經酸處理后，其純度可達到99.9%。 第二步：SiHCl3的合成 SiHCl3是由干燥的氯化氫氣體和粗硅粉在合成更多 +
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硅烷熱分解法制取高純硅的化學原理
在高純硅的制備方法中，熱分解法SiH4具有廣闊的應用前景。該方法的整個過程可分為三個部分：SiH4的合成、提純和熱分解。 （1） SiH4的合成 桂花鎂熱分解制備SiH4是工業上廣泛使用的方法。硅化鎂（Mg2Si）是由硅粉和鎂粉在500～550℃的氫氣（真空或氬氣）中混合而成。反應式如下： 2Mg+Si=Mg2Si 然后硅化鎂和固體氯化銨在液氨介質中反應生成SiH4。 Mg2Si+4NH4Cl=SiH4↑+2MgCl2+4NH3↑ 液氨不僅是介質，還更多 +
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四氯化硅氫還原法制取高純硅的化學原理
工業粗硅氯化生產四氯化硅 目前，四氯化硅的工業處理工藝一般為直接氯化工藝，即工業粗硅在加熱條件下與氯直接反應生成四氯化硅。在工業上常用的不銹鋼（或石英）氯化爐中，硅鐵被裝入氯化爐。氯從氯化爐底部引入，當加熱到200~300℃時，反應開始產生SiCl4。化學反應如下： Si-2Cl2、SiCl4 生成的SiCl4以氣體狀態從熔爐上部轉移到電容器，以液體狀態冷卻，然后流入儲罐。 在生產中，氯化溫度一般控制在450～500℃，一方面可以提高生產率，另一方面可以保證質量。因為溫度低時反應速度慢，副產物S更多 +
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標準氣體不確定度的來源和評價
與磅秤和爆震代碼相關的錯誤來源 平衡讀數的可變性、平衡零點的漂移、平衡高度的漂移、重量修正值的不確定性、氣舉的影響和機械磨損的影響。 2.與瓶子相關的錯誤來源 機械操作氣瓶來自：氣瓶表面的金屬、顏色或商標脫落，閥門或部件螺絲位置的金屬脫落，氣瓶、閥門或相關部件上的灰塵，以及氣瓶表面的吸附/解吸。 浮力效應來自氣缸本身、填充氣體引起的氣缸與環境空氣之間的溫差以及填充氣體導致的氣缸體積變化。 空氣密度的變化是由溫度、氣壓、濕度、二氧化碳含量和外部體積測量的不確定性引起的。 3.與組分氣體有關更多 +
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如何去除車內的有害氣體
經常開車的人都知道新車里有一種刺鼻的氣味，甚至可能非常刺激。這種氣味在消失之前會持續很長時間，即使是已經使用多年的舊車，在某些條件下（如陽光）也會散發出有害氣體的氣味。不應低估車輛中有害氣體對人類健康的危害。長期處于有害氣體超標的環境中，會對皮膚、血液和免疫系統造成損害，并可能導致蕁麻疹、過敏性鼻炎、過敏性哮喘，甚至白血病、再生障礙性貧血等疾病。 方法/步驟： 菠蘿和香水的涂布方法 優點：使用菠蘿或香水可以掩蓋新車中有害氣體的刺鼻氣味，使車聞起來很香。 缺點：沒有驅趕或殺戮功能，司機和乘客在更多 +
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稀有氣體都有哪些具體的用途
稀有氣體的具體用途是什么？空氣是生產稀有氣體的主要原料。稀有氣體混合物可以通過液態空氣的分餾得到，然后通過選擇性低溫吸附從活性炭中分離稀有氣體。惰性氣體無色、無味、無味，幾乎不溶于水，其溶解度隨著分子量的增加而增加。稀有氣體分子由單個原子組成，它們的熔點和沸點都很低。隨著原子量的增加，熔點和沸點逐漸增加。它們可以在低溫下液化。 除氦外，最外層的電子層很少有穩定的8電子構型，因此在一般情況下，它們不容易獲得或失去電子并形成化學鍵。它們的化學性質非常不活潑，這不僅使其難以與其他元素結合，而且還以單原子分子更多 +
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氮氣發生器的工作原理
氮氣發生器是一種先進的氣體分離技術，采用優質進口碳分子篩（CMS）作為吸附劑，采用變壓吸附（PSA）原理在室溫下分離空氣，產生高純度氮氣。其主要應用領域有：航空航天、核能和核能、食品和醫藥、石油化工、電子工業、材料工業、國防軍工、科學實驗等。 電化學制氮（需要“添加液體”）： 電化學氮氣發生器可以產生純氮氣、氧氣和其他氣體。它采用恒電位電解法，使用微孔膜（如石棉膜）作為兩個電極的分隔板，多孔氣體擴散氧氣電極作為陰極，鎳機作為陽極，電極安裝有硬支撐結構。發電機能在氮氣室和氧氣室更多 +
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氮氣常見的制備方法大全
氮是如何產生的？氮氣的常用制備方法有液空分餾、低溫分離、膜分離、變壓吸附、變壓吸收等。由于氮占大氣的4/5，即超過大氣的78%，我們幾乎可以無限使用氮。 液體空氣分餾 氮主要是通過從大氣中分離或分解含氮化合物而產生的。 液化空氣每年產生3300多萬噸氮氣，然后通過分餾產生氮氣和大氣中的其他氣體。 低溫分離 低溫分離過程也稱為低溫蒸餾過程，其中利用空氣中氮和氧的不同沸點來分離氧和氮。由于氮氣的沸點（-196℃）低于氧氣的沸點，液氮在液態空氣蒸發過程中比液氧更容易變成氣體，而氧氣在空氣液化過程中比更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發展
近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰略性新興產業發展規劃》、《關于集成電路生產企業有關企業所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規模集成電路、LCD器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產業發展迅速。與此同時，隨著這些行業的快速發展，含氟特殊電子氣體也有了很大的增長。 常見的含氟特殊電子氣體有六氟化硫（sf6）、六氟化鎢（WF6）、四氟化物（CF4）、三氟甲烷（CHF3）、三氟化氮（NF3）、六氟乙烷（C2F6）和八氟丙烷（C3F8）。 三氟化氮（NF3）是一種含氟特殊氣體，是市場更多 +
