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氦氣硬盤有哪些優(yōu)點(diǎn)？
隨著中國視頻監(jiān)控市場的蓬勃發(fā)展，來自監(jiān)控用戶監(jiān)控系統(tǒng)規(guī)模的不斷增長，對于大容量監(jiān)控硬盤的需求也在不斷增長，氦氣硬盤大大縮短了碟片之間的距離，使彼此靠得更近。目前3.5寸硬盤最多只能塞進(jìn)去五張碟片，充氦之后能夠增加到八張。這樣一來，假如單碟容量達(dá)到1.5TB，整塊硬盤的理論容量就可達(dá)到12TB之多。 氦氣充填硬盤最大的特點(diǎn)容納多兩張的碟片，增加40%的容量。其次是磁盤和磁頭的阻力減少，為提高碟片的存儲(chǔ)密度創(chuàng)造條件，間接幫助硬盤擴(kuò)大容量。 除了提供超大容量，6TB充氦更多 +
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乙烯在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用
一、乙烯在生態(tài)領(lǐng)域中的應(yīng)用： 乙烯“三重反應(yīng)”（triple response of ethylene）：①抑制莖的伸長生長；②促進(jìn)莖和根的增粗；③促進(jìn)莖的橫向增長。用乙烯處理黃化幼苗莖可使莖加粗和葉柄偏上生長。 由于乙烯可以促進(jìn)RNA和蛋白質(zhì)的合成，并可在高等植物體內(nèi)使細(xì)胞膜的透性增加，加速呼吸作用，因而當(dāng)果實(shí)中乙烯含量增加時(shí)，已合成的生長素又可被植物體內(nèi)的酶或外界的光所分解，進(jìn)一步促進(jìn)其中有機(jī)物質(zhì)更多 +
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丁烷的爆炸極限是多少？
可燃?xì)怏w與空氣在一定的濃度范圍內(nèi)均勻混合，形成預(yù)混氣，遇著火源就會(huì)發(fā)生爆炸，這個(gè)濃度范圍稱為爆炸極限。丁烷與空氣的混合物爆炸極限是19%~84%。 爆炸極限：爆炸極限也稱爆炸濃度極限，是指可燃物質(zhì)（可燃?xì)怏w、蒸氣和粉塵）與空氣（或氧氣）必須在一定的濃度范圍內(nèi)均勻混合，形成預(yù)混氣，遇著火源才會(huì)發(fā)生爆炸，這個(gè)濃度范圍。可燃性混合物的爆炸極限范圍越寬、爆炸下限越低和爆炸上限越高時(shí)，其爆炸危險(xiǎn)性越大。這是因?yàn)楸O限越寬則出現(xiàn)爆炸條件的機(jī)會(huì)就多；爆炸下限越低則可燃物稍有泄漏更多 +
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六氟化硫做絕緣有什么缺點(diǎn)？
1、SF6雖然無毒，但密度大，不易稀釋和擴(kuò)散，是一種窒息性物質(zhì)，在故障泄漏時(shí)容易造成工作人員缺氧，中毒窒息。 2、SF6氣體在電場中產(chǎn)生電暈放電時(shí)會(huì)分解出來SOF2（氟化亞硫酰）、SO2F2（氟化硫酰）、S2F10（十氟化二硫）、SO2（二氧硫）、S2F2（氟化硫）、HF（氫氟酸）等近十種氣體。這些氟、硫化物氣體都有毒性，而且S2F10還具有劇毒性和腐蝕性。如對鋁合金、瓷絕緣子、玻璃環(huán)氧樹脂等絕緣材料，能損壞它們的結(jié)構(gòu)；對人體及呼吸系統(tǒng)有強(qiáng)列的刺激和更多 +
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三氯甲烷的廢氣回收處理
三氯甲烷作為基礎(chǔ)的化工原料和常用溶劑，在各種工藝過程中通過不同的手段進(jìn)入大氣，進(jìn)而污染大氣，萬浩機(jī)械采用活性炭纖維作為吸附劑，承攬三氯甲烷廢氣吸附回收裝置的設(shè)計(jì)、加工制造業(yè)務(wù)。 廢氣處理裝置組成：預(yù)處理裝置、吸附罐/吸附器、脫附冷凝回收系統(tǒng)、干燥降溫系統(tǒng)。 裝置工藝： 1、預(yù)處理—吸附：有機(jī)廢氣（如有必要需風(fēng)機(jī)加壓或者引更多 +
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氨氣的制取方法
一、工業(yè)制法： 1.布朗的三塔三廢鍋氨合成圈 布朗三塔三廢鍋氨合成圈由3個(gè)合成塔和3個(gè)廢鍋組成。塔內(nèi)有催化劑筐，氣體由外殼與筐體的間隙從底部向上流過，再由上向下軸向流過催化劑床。三塔催化劑裝填量比二塔多，最終出口氨含量可以從16.5%提高到21%以上，減少了循環(huán)氣量，節(jié)省了循環(huán)壓縮功。合成塔控制系統(tǒng)非常簡單，各塔設(shè)有旁路用閥門調(diào)節(jié)氣體入塔溫度。由于氨合成反應(yīng)平衡的限制，決定了催化劑溫度，不需要調(diào)節(jié)催化劑床層反應(yīng)溫度。 2.伍德兩塔更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控更多 +
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液氮在電子工業(yè)中的應(yīng)用
液氮是低溫-196℃的液體，是由占用空氣成分百分之七十多的氮?dú)獾脕淼摹６栊浴o色、無毒，易揮發(fā)，使用范圍非常廣。液氮低溫易揮發(fā)，所以一般儲(chǔ)存在專用容器—液氮罐中。 1、電子元件制造與檢測 液氮是一種更快和更有效的屏蔽和測試電子元器、電路板的方法。 2、低溫球磨技術(shù) 低溫行星式球磨機(jī)是將液氮?dú)怏w源源不斷地輸入裝有保溫罩的行星式球磨機(jī)中，這些冷氣將高速旋轉(zhuǎn)的球磨罐產(chǎn)生的熱量及時(shí)更多 +
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高純氣體管道運(yùn)輸中管材的影響
在不銹鋼熔煉制材過程中，每噸可吸收大約200g的氣體。不銹鋼材加工完畢，不僅其表面粘有各種污染物，而且在其金屬晶格內(nèi)也吸留有一定量的氣體。當(dāng)管路中有氣流通過時(shí)，金屬所吸留的這部分氣體會(huì)重新進(jìn)入氣流中，污染純凈氣體。當(dāng)管內(nèi)氣流為不連續(xù)流動(dòng)時(shí)，管材對所通過的氣體形成壓力下吸附，氣流停止通過時(shí)，管材所吸附的氣體又形成降壓解析，而解析的氣體同樣作為雜質(zhì)進(jìn)入管內(nèi)純凈氣體中。同時(shí)，吸附、解析周而復(fù)始，使得管材內(nèi)表面金屬也會(huì)產(chǎn)生一定的粉末，這種金屬粉塵粒子同樣污染管內(nèi)純凈的氣體。管材的這一特性至關(guān)重要，為了確保輸更多 +
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